13/10/2026
Waar chips worden gemaakt, telt niet alleen ieder deeltje, maar ook iedere molecule.
In semiconductor- en micro-elektronicaproductie vormt niet alleen stof een risico. Ook Airborne Molecular Contamination (AMC) kan kritische productieprocessen beรฏnvloeden.
Denk aan zeer lage concentraties van onder andere ammoniak, zuren, basen, VOCโs en andere gasvormige verontreinigingen. Stoffen die met het blote oog niet zichtbaar zijn, maar wel invloed kunnen hebben op gevoelige processen, productkwaliteit en uiteindelijk de yield.
En juist daar houdt de werking van een HEPA- of ULPA-filter op.
HEPA- en ULPA-filters verwijderen deeltjes. Voor moleculaire verontreiniging is gasfasefiltratie nodig.
TripleAir past hiervoor onder andere gasfasefilters toe met speciaal geselecteerd actief-koolgranulaat en geรฏmpregneerde adsorptiemedia, afgestemd op de aanwezige verontreiniging en de specifieke toepassing.
Op basis van onder andere:
het type verontreiniging
de concentratie in de luchtstroom
het luchtdebiet
temperatuur en relatieve vochtigheid
de benodigde contacttijd
de adsorptiecapaciteit van het gekozen medium
kan worden bepaald welk adsorptiemedium geschikt is, hoeveel kilogram nodig is en wat de verwachte standtijd van het filter is.
Zo kan filtervervanging gepland plaatsvinden vรณรณrdat doorslag optreedt.
Dat is essentieel in omgevingen waar contaminatiebeheersing direct samenhangt met proceszekerheid, productkwaliteit en yield.
Van semiconductor en micro-elektronica tot laboratoria en farmaceutische productieomgevingen: soms zit het grootste risico juist in wat je niet kunt zien.
Wilt u weten welke gasfasefiltratie geschikt is voor uw proces of hoeveel adsorptiemedium nodig is voor uw toepassing? TripleAir Technology denkt graag met u mee.