What are the opening hours?

Monday 09:00 - 18:00 Tuesday 09:00 - 18:00 Wednesday 09:00 - 18:00 Thursday 09:00 - 18:00 Friday 09:00 - 18:00

ASML

歡迎來到ASML 台灣粉絲團！我們是全球晶片微影設備的市場領導者，在此將與您分享未來科技的無限可能！

總部位於荷蘭的ASML (台灣艾司摩爾) 是全球最大晶片微影設備市場的翹楚，為半導體製造商提供微影設備及相關服務。全球十大半導體廠皆為ASML的客戶，30多年來，ASML不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能用合理的價格買到功能更強大、更小巧、更節能的電子設備，進而提升人類的生活品質。

自2003年在台灣設立第一間辦公室以來，台灣艾司摩爾如今共有四個服務據點，在台員工約4,500人，來自27個不同國籍的同事，於新竹、台中、台南設有辦公室，並在林口設有卓越創新中心 (ASML Center of Excellence, ACE)，負責機台翻修與量測設備生產。ASML於台南則設有電子束檢測設備製造廠，並於2020年設立EUV全球技術培訓中心，內部配備實機模組 (Live Module)，提供技術理論課程和無塵室實機操作課程等多元化培訓內容。

作為領導企業，ASML致力於為員工打造最佳工作環境，讓全球優秀的工程師樂於在此工作、交流、學習和分享。ASML秉持Challenge、Collaborate、Care的企業價值觀，尊重員工、促進員工與同儕及主管間的率直討論、相互學習，更讓我們能夠持續維持技術領先優勢。我們不僅致力於技術的開發，也為企業的永續發展和企業社會責任努力，包括廢棄物控制和資源最大化，並支持企業公民計劃，包含公司營運所在社區的科普教育，從而奠定我們的企業經營基礎。

19/10/2026

【ASML 技術簡單說 | 微影的黃金三角：運算就是微影的「導航系統」🧭】

如果沒有運算式微影（Computational Lithography），微影製程就像在黑暗中前進的盲目駕駛，不知道方向，也不確定是否走偏。

在奈米級的世界裡，光的繞射、材料反應、製程變異等，都會讓最終圖形產生偏差，因此關鍵在於能不能在「印之前」，就先知道哪裡可能出錯。

這就是運算式微影的核心價值，讓製程從「事後修正」，走向「事前預測」：
🔍 預測風險：在曝光前，透過模擬模型找出可能產生偏差的位置與原因。
🎯 調整路徑：根據預測結果，調整曝光條件與圖案設計，讓實際成像更接近原始設計。
🔁 路況更新：持續回傳量測與實際製程數據，讓預測模型越來越精準。

整個過程，就像導航系統在出發前先分析路況，知道哪裡要轉彎、怎麼走最順，並規劃出最佳路線。🗺️

接下來，將進入黃金三角中的另一關鍵環節：量測與檢測。🔬
趕快追蹤，跟著艾小編繼續學習更多微影技術！🚀

14/10/2026

【ASML 情報員快說｜📢 2026 第三季財報公佈】

ASML 公佈 2026 第三季財報，第三季銷售淨額為 117 億歐元，淨收入為 50 億歐元，毛利率為 57.5%。預估第四季銷售淨額約 142 億至 152 億歐元之間，毛利率預估為 57%。預計 2026 年的銷售淨額介於 440 億至 450 億歐元之間，毛利率約為 56%。

ASML 執行長 Christophe Fouquet 表示：「客戶持續上調短、中期設備需求預估，主要反映他們對於 AI 相關投資規模及持續時間的預期。基於對需求能見度的掌握，一些客戶已表示有興趣向我們下單預訂 2029 年甚至 2030 年的設備。」

基於 AI 持續帶來的強勁設備需求，ASML 正在研究如何進一步提升 2028 年的產能，支援客戶的需求。

更多財報內容，點這裡看>> http://ms.spr.ly/6180asrc6

13/10/2026

【ASML 技術簡單說｜微影的黃金三角：為了製程穩定，系統會「互相校正」😮】

為了滿足晶片不斷微縮的需求，製程技術面臨的挑戰不再只是「能不能做出來」，而是如何在可控範圍內，穩定地製造晶片。

這個「可控範圍」，就是製程的 Process Window。只要確保製程的各項參數在 Process Window 的範圍內，就能製造出符合規格要求的晶片。

❓微影製程如何確保 Process Window？

在 ASML 全方位微影解決方案中，各系統並非獨立作業，而是透過「互相校正」、彼此補位，共同守護 Process Window：
💫【導航】運算式微影：在開工前，先用模型與演算法預測最佳路徑與理想的製程範圍
💫【執行】微影系統：將圖案實際印在晶圓上，確保每一步落在可接受範圍內
💫【回報】量測與檢測：量測實際結果，如有偏差，即時回傳數據進行動態修正，把製程拉回安全範圍內

❓「互相校正」帶來什麼好處？
全方位微影解決方案讓 Process Window 不只是單一的標準，而可以被定義、被放大、被穩定維持。隨著 Process Window 最大化，製程將變得更穩定、可以實現更高的良率，並持續推動半導體的技術創新。

點進圖片看看全方位微影解決方案如何最大化 Process Window 吧！

12/10/2026

【ASML 技術簡單說｜微影的黃金三角：從一塊矽打造數位世界】

日常的滑手機、看影片、跑 AI 模型，其實都是從一個不起眼的材料開始——矽。

它不像金屬容易導電，也不像玻璃完全不導電，剛剛好介於兩者之間，反而成為最關鍵的存在。🔌

這就是「半導體」的厲害之處，不只是能不能導電，而是「導多少電」都可以被精準設計。只要在矽中加入極少量其他元素，工程師就可以控制電流的開與關。🎯

這些被精密控制的區域，構成了晶片最基本的單位：電晶體。一顆晶片，往往由數百萬甚至數十億個電晶體組成。⚡

ASML 的微影技術，正是用光，把這些「電流開關」一個一個精準地「印」在矽晶圓上。

當我們能在矽上穩定寫入這些微小結構，就等於掌握了控制電流的能力，而這些電流，最終變成
手機的每一次滑動、AI 的即時推理，還有雲端不間斷的資料處理。☁️

從一塊矽開始，一路打造出整個數位世界的運作基礎。🌍

點進圖片看更多半導體的厲害之處 👇📱

08/10/2026

【ASML 益起說｜一起來回顧 ASML 榮獲天下永續公民獎與天下永續人才獎🎉雙獎肯定永續策略！】

感謝評審與夥伴！ASML 榮獲《天下雜誌》「天下永續公民獎」與「天下永續人才獎」外商組雙料第一名！🎉
快跟艾小編一起看看 ASML 的永續行動精華！👇
永續如何深深扎根在營運、技術創新、棲地、社區與每一位 ASMLer 的日常中。

#環保行動｜讓科技更加永續🌱
• 減碳營運：ASML 台灣已於 2025 年達成全據點 100% 使用再生電力。
• 技術創新：透過 EUV 機台持續創新，截至今年，每片曝光晶圓能耗較 2018 年降低約 67%。
• 守護棲地：攜手自然保育與環境資訊基金會，投入守護竹東 13,000 ㎡棲地！

#社會參與｜攜手在地共好🤝
• 與安得烈慈善協會合作：支持 1,500 個弱勢家庭，志工投入 1,000+ 小時親手寫下卡片送上溫暖食物箱。
• 與 Teach For Taiwan 合作：推動「英語星火計畫」，4,000+ 志工時數陪伴 2,000+ 學童拓展國際視野。

#人才培育｜賦能夥伴迎戰未來🚀
• 創造人才：Talent 2030 重視學習敏捷力（Learning Agility），100% People Leaders 已透過 Talent Review 流程，陪伴團隊一起成長！
• 促進職涯機會：台灣有超過 50% ASMLer 建立「內部版 LinkedIn」來探索內部職涯機會，2025年內部流動率達 37.3%。

永續路上，謝謝每一位 ASMLer 與合作夥伴的同行 ❤️
快點進影片，跟艾小編一起回顧 ASML 的永續行動吧！

06/10/2026

【ASMLer 說｜從「找到人才」到「創造人才」，讓人才成為持續創新的力量 🚀】

AI 時代的技術革新與產業環境變化，讓未來變得越來越難預測。面對這樣的時代，企業需要的不只是適應變化，而是讓組織能夠持續學習、調整，甚至在每一次變化後變得更強。

隨著 AI 加速發展，半導體產業對人才能力的需求也不斷改變，ASML 透過 Talent 2030 人才永續藍圖展望未來 10 年，將人才策略從「填補職缺」轉向「培養具備持續學習與成長能力的人才」。

🔎 Learn Faster｜培養學習敏捷力
面對沒有標準答案的新挑戰，ASML 重視學習敏捷力（Learning Agility）。2025 年 ASML 正式員工年平均訓練時數達到 90 小時，高於產業平均近 52 %，讓個人學習成長轉化成推動團隊創新的力量。

🌱 Adapt Faster｜讓人才與能力持續流動
當 ASML 的策略與技術不斷創新，組織也需要重新配置人才與能力。ASML 台灣目前的內部流動率達 37.3%，較 2024 年成長 15.5%，讓人才有更多機會跨部門發展、讓人才持續內部流動。

在 AI 時代，ASML 推動的組織韌性不只是「撐過變化」，而是具備持續進化的能力，陪伴每一位 ASMLer 持續學習、發揮潛力，找到創新的可能性。✨

02/10/2026

【ASML 益起說｜從技術、營運到社區 ASML 落實多面向永續行動🌱】

AI 與先進製程加速科技創新，企業的責任也不只在於創造更高效能的技術，也需要思考如何攜手環境與社會一起打造更美好的未來。

ASML 從技術、營運到社區 ASML 落實多面向永續行動：

🌱 環境永續｜落實從營運到節能創新的行動
在環境永續方面，ASML 台灣已於 2025 年達成全據點 100% 使用再生電力，下一階段將以 2030 年上游供應鏈達成淨零為目標，並於 2040 年實現整體價值鏈淨零，較聯合國 2050 淨零目標提前 10 年。

針對技術創新，ASML 將提升設備能源使用效率納入技術藍圖，透過 EUV 機台的技術創新，截至今年，每片曝光晶圓能耗較 2018 年降低約 67%。隨著設備效能與生產力提升，ASML 持續改善能源使用效率，在支持先進製程發展的同時，降低每片曝光晶圓所需的能源。

🤝 社會參與｜深度關懷弱勢家庭並長期守護棲地
在社區關懷方面，ASML 與安得烈慈善協會合作，每月提供全台 1,500 個經濟弱勢家庭「客製化膳糧食物箱」，把一份份資源與關懷送到需要的地方。

針對環境保護，ASML 攜手自然環資 - TNF 投入支持棲地保護，一起守護林口 18,000 m² 的重要淺山棲地，讓零碎的綠地重新串聯，為生物保留安全棲息與移動的空間，並規劃以長期土地信託模式守護自然環境。

歡迎在底下留言支持永續行動，跟艾小編一起看見 ASML 如何從科技出發，讓創新的影響力走得更遠吧！

30/09/2026

【ASML 情報員快說｜ASML 榮獲「天下永續公民獎」與「天下人才永續獎」外商組第一名 🏆🎉】

感謝每一位 ASMLer 與產業夥伴的共同努力！ASML 在今年的天下雜誌評選中，榮獲「天下永續公民獎」與「天下人才永續獎」外商企業組第一名的雙料殊榮！✨

ASML長期深耕台灣，在科技加速創新的時代，持續在環境永續、社會參與人才發展等面向落實永續。

ASML 副總裁暨台灣區總經理 Grace Wang 特別分享：「在ASML，我們相信科技創新與永續發展必須同行，企業成功不只來自創新，更來自將企業資源轉為社會影響力。」

我們從「環境 × 社會 x 人才」三大面向持續落實長期永續行動：

🌱 環境永續｜持續淨零承諾，台灣營運達到100%使用再生能源；透過EUV的產品設計創新，截至今年每片曝光晶圓能耗降低67%。

🤝 社會參與｜從企業走進社區，攜手公益單位支援弱勢家庭與投入棲地保育，讓永續影響延伸至社會與自然環境。

👨‍💻 人才發展｜以Talent 2030 長期藍圖，將學習敏捷力導入人才培育，並透過系統鼓勵內部職涯發展，布局下一世代的人才競爭力。

未來，ASML 會繼續帶著這份熱情，與半導體人才、產業夥伴持續為創造更美好的環境！🚀

跟艾小編一起動動手指在底下留言按讚，一起為 ASML 的夥伴們加油打氣吧！❤️

25/09/2026

【ASMLer 說｜中秋節快樂！ EUV 的「超高精準度」可以用月球來想像 🌕】

這個月艾小編帶大家認識了 EUV 的原理與技術突破：從 EUV 光怎麼產生、光罩怎麼帶上電路圖案，到晶圓平台如何高速又精準地完成曝光。

但如果這些奈米級精準度還是有點難想像，其實可以用今晚抬頭就看得到的月亮來理解！👀

為了產生波長只有 13.5 奈米的 EUV 光，系統需要用高能雷射，以每秒約 50,000 次的頻率，精準擊中只有約 20 微米大小的錫滴。

這有多難？
可以想像成：人在地球上拿著手電筒，要精準照中月球上的一枚 50 元硬幣，而且要一次就照到。 🔦🌕

EUV 的每個技術環節就是圍繞著這麼高的精準度而生——從產生光、讓光帶上電路圖案，到最後把圖案精準曝光在晶圓上，每一步都在挑戰速度與精度的極限。

這個中秋節，除了賞月、吃月餅，也可以跟身邊的人分享這個 EUV 小知識！✨

🎁 快到留言區查看任務說明，跟艾小編一起挑戰截圖照到硬幣的瞬間，就有機會獲得小禮物！

24/09/2026

【ASML 技術簡單說｜科技革新的動能：從 1 瓦到 1,000 瓦，EUV 光源如何持續突破？⚡】

AI 持續進化，支援先進晶片製造的微影技術也沒有停下腳步。🚀

為了支援下一代 AI 與高效能運算晶片，ASML 花了 25 年持續突破 EUV 光源技術，從最初的 1 瓦，一路提升到 1,000 瓦！

為什麼 EUV 光源功率這麼重要？👀
對微影系統來說，更高的 EUV 光源功率，代表未來有機會加快晶圓曝光速度、提升生產效率，進一步支援更多先進晶片量產。

而從 1 瓦一路升到 1,000 瓦，可是一步一步累積出來的！
🔹 2010 年｜1 瓦：開始驗證 EUV 技術的可行性，接著從 10 瓦、50 瓦到 100 瓦，持續提升光源的穩定性與效率。
🔹 2018 年｜250 瓦：進一步支援先進製程量產，每小時可生產約 125 片晶圓。
🔹 2022 年｜500 瓦：持續挑戰更高功率，為提升晶圓產能進行技術驗證。
⚡ 2025｜1,000 瓦：成功展示 1,000 瓦 EUV 光源，為未來更高效率的先進晶片製造奠定基礎。

突破 1,000 瓦，不只是「光變得更亮」！更重要的是，未來製程有機會在維持奈米級精準度的同時，讓更多晶圓在更短時間內完成曝光，協助滿足 AI、高效能運算等新興科技持續成長的晶片需求。✨

從曝光技術到持續突破光源極限，ASML 持續攜手半導體生態系夥伴，一起推動晶片製造技術向前。

🎁 艾小編出題啦！看完上面的分享，你還記得 2025 年成功展示的 EUV 光源功率是多少嗎？
A. 1 瓦　B. 10 瓦　C. 1,000 瓦

完成以下任務，就有機會獲得精選好禮！
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