14/05/2026
【ASML 技術簡單說｜跑在第一道光前！那些看不到的關鍵🔦】
為了紀念物理學家 Theodore Maiman 成功發射出第一道雷射光，每年的 5 月 17 日被定為國際光之日（International Day of Light）。
而在 ASML，我們每天都在和「光」一起工作。從一束肉眼看不見的極紫外光（EUV）開始，我們在晶圓上刻劃奈米級圖樣。
但在奈米等級的世界裡，光其實沒有想像中那麼「聽話」👀
當晶片越做越小，光會因為繞射讓圖形變形，材料與製程也可能產生各種細微偏差。
如果等做到一半才發現問題，不只很難修正，成本也會非常高💸
所以比起邊做邊試錯，更重要的是先算好再開始做🙆
ASML 透過軟硬體整合，讓這種預判成為可能，其中包含幾個關鍵能力：
1️⃣ 運算式微影（Computational Lithography）
在曝光前先幫光「修正路線」，包含光學鄰近效應修正（OPC），透過預先調整圖案形狀，讓真正印在晶圓上的結果更接近原始設計 🧮
2️⃣ FEM+ 建模工具（Focus Exposure Matrix Modeling）
整合光學、光阻、蝕刻與材料反應等關鍵環節，在製程開始前，就先預測哪裡可能出問題 🧩
許多推動科技進步的重要突破，都和光的應用息息相關。
而我們，也持續追逐著更短波長的光，讓下一代科技成為可能 ✨
